光刻膠
2025-11-17 11:36:02
優(yōu)尼康科技——為光刻膠工藝提供全方位的計量與檢測解決方案
在半導(dǎo)體制造中，光刻膠作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵載體，其涂層厚度、圖形形貌以及機械性能的精確控制，直接決定了電路的精密性與良率。優(yōu)尼康科技有限公司作為儀器代理公司，整合了多種測量設(shè)備，為光刻膠的研發(fā)、工藝優(yōu)化與質(zhì)量控制提供從薄膜測量、3D形貌分析到力學(xué)性能測試的全鏈條支持。我們的設(shè)備覆蓋了光刻膠工藝中的多個關(guān)鍵應(yīng)用場景。
優(yōu)尼康設(shè)備在光刻膠工藝中的具體應(yīng)用：
| 設(shè)備類別 | 產(chǎn)品型號/名稱 | 在光刻膠領(lǐng)域的主要應(yīng)用 |
|---|---|---|
| 膜厚測量 | Filmetrics F20/F50 膜厚儀 | 測量光刻膠涂層厚度（1nm-10mm）及均勻性，折射率 |
| 橢偏儀 | Film Sense FS-8 橢偏儀 | 精確測量光刻膠超薄厚度（0–1000nm）和光學(xué)常數(shù)（n,k值） |
| 輪廓儀 | KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀 | 光刻膠圖形化后的3D形貌、關(guān)鍵尺寸（CD）、側(cè)壁角、臺階高度 |
| 臺階儀 | KLA P-7 探針式輪廓儀 | 光刻膠圖形化后的2D/3D臺階高度、粗糙度 |
總結(jié)
從光刻膠涂覆的膜厚與均勻性控制，到曝光顯影后的圖形化結(jié)構(gòu)分析（如關(guān)鍵尺寸、側(cè)壁角），優(yōu)尼康科技都能提供精準(zhǔn)、高效的測量方案。
如果您在光刻膠工藝中遇到任何測量挑戰(zhàn)，或希望獲取上述設(shè)備的最新詳細技術(shù)資料與應(yīng)用案例，歡迎隨時聯(lián)系我們。 優(yōu)尼康科技的專業(yè)團隊將為您提供個性化的產(chǎn)品選型與技術(shù)支持服務(wù)。
