KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡

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KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品介紹：

KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術而來。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對大部分材料和結構進行成像分析，從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設計理念，為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項來滿足各種不同的測量需求，所有硬件安裝和操作都簡單易用。

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品特點：

Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡提供多種光學測試技術，以滿足用戶各種不同領域的測試需求。
ZDotZ點陣三維成像技術是Zeta所有系列產(chǎn)品的標配技術，Z點陣獨特的明暗場照明方案結合不同物鏡幫助客戶測量“困難”的表面。
ZIC干涉反襯成像技術，實現(xiàn)納米級粗糙度表面的成像及分析。
ZSI白光差分干涉技術，垂直方向分辨率可達埃級。
ZI 白光干涉技術，大視場下納米級高度的理想測量技術。
ZFT反射光譜膜厚分析技術，集成寬頻反射光譜分析儀，可測量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品優(yōu)勢：

重復性和再現(xiàn)性
接觸式測量，適用于多種材料
測量軟材料的微力控制
梯形失真校正可大幅度減少側視圖造成的失真
弧形校正補償探針的弧形運動

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品測量原理：

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡的原理是通過共聚焦原理實現(xiàn)樣品的高分辨率、高對比度的光學切片能力。它結合了傳統(tǒng)光學顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡的特點，利用寬譜白光作為光源，通過空間濾波機制消除離焦光干擾，從而獲得高精度的三維圖像。

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡主要應用：

臺階高度	紋理
外形	應力
薄膜厚度	缺陷檢測

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品參數(shù)：

	ZDOT	ZI	ZIC	ZSI	ZFT
粗糙度：> 40nm	●
粗糙度：<40nm			●
大視場、Z方向高分辨率		●
15nm-25mm臺階高度	●
5nm-100μm臺階高度		●
<10nm 臺階高度				●
缺陷：尺寸 <1μm，高度 <75nm			●	●	●
缺陷：尺寸 >1μm，高度 >75nm				●
30nm<薄膜和厚度 <15μm
薄膜厚度 >15μm	●